『学内広報』表紙写真目録(三百〜七百八十三号)
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概要
論文 | ランダム
- RFスパッタ形成したSi酸化膜を用いたMIMキャパシタの抵抗変化特性 (シリコン材料・デバイス)
- Evaluation of electrical property at SrTiO3 bicrystal interface by EBIC (シリコン材料・デバイス)
- 高温熱処理によるTiN/HfLaSiO/SiO2ゲートスタック中Hf及びLa原子のTiN電極中への拡散とMIPS構造による抑制 (シリコン材料・デバイス)
- ITO/HfO2 MOSキャパシタで、酸化・還元熱処理がVfbシフトへ及ぼす影響 (シリコン材料・デバイス)
- ハフニウム酸化物への元素添加効果--第一原理計算による検討 (シリコン材料・デバイス)