JFCA 産業振興賞(平成19年度) 半導体製造プロセス向け高純度炭化ケイ素製品

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る

著者

• 和田 宏明

  (株)ブリヂストン

• 荻野 隆夫

  (株)ブリヂストン

• 高橋 佳智

  (株)ブリヂストン

関連論文

• 半導体製造装置向け高純度炭化ケイ素製品の開発
• 半導体製造装置向け高純度炭化ケイ素製品の開発
• JFCA 産業振興賞(平成19年度) 半導体製造プロセス向け高純度炭化ケイ素製品
• 高純度SiC製品の開発
• ブリヂストンの高純度SiC焼結体:ピュアベータ (特集 第18回テクノフェスタ)
• リチウム電池用不燃添加剤

スポンサーリンク