特集 CMP/平坦化技術の最新動向--CMPスラリー編 バリア膜研磨スラリーの選択比制御技術
スポンサーリンク
概要
富士写真フイルムR&D総括本部知的情報統合部 | 論文
- 酵母表層に発現したRhizopus oryzaeリパーゼの有機溶媒中で増強された酵素活性--有機溶媒中での生体触媒としての可能性
- 有機光電変換膜を積層したCMOSイメージセンサー
- 色素系光ディスクの熱安定性改良--水素結合の効果
- 特集 CMP/平坦化技術の最新動向--CMPスラリー編 バリア膜研磨スラリーの選択比制御技術
- Barrier-CMPスラリーにおける平坦性の改良方法