アモルファス炭素膜の構造制御(第3報)--プラズマCVD法により成膜したa-SiC:H膜の特性
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- 磁化活性汚泥法を活用した化学めっき廃液の資源回収・浄化プロセスの検討
- 電鋳法を利用した磁気研磨工具の開発(機械要素,潤滑,工作,生産管理など)
- アモルファス薄膜の構造と特性評価(第2報)
- UBM法によるDLC薄膜の作製と特性評価--添加ガスが及ぼす影響の検討
- アモルファス薄膜の構造と特性評価(第1報)
- DCプラズマCVD法によるDLC薄膜の作製と特性評価
- アモルファス炭素膜の構造制御(第3報)--プラズマCVD法により成膜したa-SiC:H膜の特性
- 無電解ニッケルめっき廃液からの連続式ニッケル回収システムの開発
- めっき廃液の無害化処理に関する研究
- 表面の分析・評価技術に関する研究
- 電鋳法を利用したニッケル-コバルトベース磁気研磨工具の開発(機械要素,潤滑,工作,生産管理など)
- 新しい磁気研磨工具の開発とその実用化に関する研究(第2報)
- 21210 ニッケル・コバルトベース電鋳磁性工具の加工性能とその応用(高精度・高能率のための加工技術(2),OS9 高精度・高能率のための加工技術)
- 新しい磁気研磨工具の開発とその実用化に関する研究(第1報)
- 細管内面の超精密磁気援用研磨技術の開発(第3報)ガスアトマイズ磁性工具による細管内面の精密磁気研磨加工
- 細管内面の超精密磁気援用研磨技術の開発--ガスアトマイズ法を利用した磁性研磨工具の開発
- 酸化チタン光触媒を用いたFe-Cr合金めっきの光カソード防食の検討
- ケイ素含有炭素薄膜単層コートによるマグネシウム合金の表面特性向上