ゾル-ゲル法による強誘電体薄膜の形成と評価 (特集/ゾル-ゲル法による技術開発の展望)

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 化学工業社の論文

著者

• 鈴木 久男

  静岡大学

関連論文

• ゾル-ゲル法による強誘電体薄膜の形成と評価 (特集/ゾル-ゲル法による技術開発の展望)
• 粉体材料プロセッシング : ナノへの挑戦
• BLコンデンサー
• ペロブスカイト
• 20pAR-7 斜方晶-正方晶相境界による圧電性の増強(20pAR 誘電体(ペロフスカイト,酸化物,量子効果),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))

スポンサーリンク