Tailored Glass Transition of ArF Resists for Resolution Enhancement at sub-50 nm node

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概要

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• Technical Association of Photopolymers, Japanの論文

著者

• Fuji Yusuke

  Sumitomo Chemical Co. Ltd. Osaka Jpn

• Takemoto Ichiki

  Sumitomo Chemical Co. Ltd. Osaka Jpn

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