Resist Characteristics of Acryl Polymer with Methyl Acetal Protecting Group for 193 nm Lithography

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概要

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• Technical Association of Photopolymers, Japanの論文

著者

• Matsumaru Shogo

  Tokyo Ohka Kogyo Co. Ltd. Kanagawa Jpn

• Ogata Toshiyuki

  Tokyo Ohka Kogyo Co. Ltd. Kanagawa Jpn

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