Copolymers with Well-Controlled Molecular Weight and Low Polydispersity for 193 nm Photoresists

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概要

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• Technical Association of Photopolymers, Japanの論文

著者

• Lee T‐y

  Tokyo Ohka Kogyo Co. Ltd. Kanagawa Jpn

• Yu C‐y

  Tokyo Ohka Kogyo Co. Ltd. Kanagawa Jpn

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