Redistribution Behavior of Trace Elements during Interal Oxidation of an Fe-6mol%Si Alloy at 1123K
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概要
表面分析研究会 | 論文
- バイオ関連評価におけるTOF-SIMSの可能性
- 最適化された低エネルギー一次イオン照射下におけるTOF-SIMSサンプリング深さの極浅化
- X線定在波法によるSrTiO3結晶のサイト選択的XPS測定
- 集束イオンビームを用いて作製した薄片試料による深い界面のオージェ電子分光法スパッタ深さ方向分析
- ポーラスな試料のAES分析用断面作製技術