ポリイソプレンへの側鎖型液晶モノマーの光増感グラフト重合
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- スピロオキサジン基を有する置換ポリアセチレン類の合成と性質
- 側鎖にスピロピラン骨格を有する置換ポリアセチレン類の合成と性質
- アオギリ粘質物の物理化学的性質
- 新規な環境低負荷型封孔処理剤の合成およびその評価
- ニッケルバンプ形状制御に用いる新規添加剤の合成とその影響
- 主鎖にスチルベン骨格を有する新規エポキシ樹脂の合成
- ベンジリデンアニリン基を含むサーモトロピック液晶ポリウレタンの合成と力学的特性
- ナトリウム触媒によるアクリルアミドおよびその誘導体の水素移動重合
- 側鎖にスチルベンを有する置換ポリアセチレンの合成と性質
- 光応答性サリチリデンアニリンを有する置換ポリアセチレン類の合成と特性
- フォトクロミック化合物を含む置換ポリアセチレンの合成と性質
- ソックスレー抽出器を用いたアミノ酸エチルエステル-p-トルエンスルホン酸塩の合成
- 主鎖にスチルベン構造を有するケイ素含有共役ポリマーの合成
- フルオレン基を有するポリウレタンの合成
- 電気銅めっきに用いるポリエチレングリコール誘導体の合成とその効果
- ケトン類を用いたジエン系ポリマーの光酸化分解
- 主鎖にカルバゾールを有する共役高分子の合成
- 主鎖にナフタレン構造を有するポリアゾメチンの合成
- 側鎖にカルバゾールを有するポリ(p-フェニレンビニレン)の合成と特性
- 側鎖にステロイド系化合物を有するポリ(フェニルアセチレン)類の合成と特性
- 第13回冬季研究発表会
- シロールを含有した共役ポリマーの合成と性質
- 増感剤存在下における加硫ゴムの固-液系光分解
- ジエン系ポリマーの光分解に及ぼすニトロ化合物の影響
- ヒマシ油を用いた新規ポリウレタンの合成
- エステル結合を含む新規ポリウレタンの合成と性質
- フローレンを含む新規ケイ素系高分子の合成と性質
- 主鎖骨格にビニレン部位を有する立体規則性含ケイ素ポリマーの合成
- ラジカル重合によるポリイソプレン両末端へのカルボキシル基の導入
- ビフェニルをメソゲンとしエステル結合を有するポリ置換アセチレンの合成と性質
- ベンジリデンアニリンをメソゲンとする液晶性モノ置換ポリアセチレンの合成と性質
- 主鎖骨格にメソゲン基を有するエポキシ樹脂の合成と性質
- 側鎖にメソゲン基を有するポリイミドの合成と性質
- 重縮合による新規リン酸エステル含有ポリマーの合成
- 4,4'-Bis(ω-hydroxyalkyleneoxy)biphenyls とメチル2,6-ジイソシアナートヘキサノアートからなる新規主鎖型液晶ポリウレタンの合成および性質
- ヒドロキシ基末端二官能性イソプレンプレポリマーとジイソシアナートとの重付加
- 側鎖にコレステリル基を有するポリフェニルアセチレンの合成と特性
- エステル結合を有する新規ポリウレタンの合成とその酵素分解性
- 溶液系における加硫ゴムの光分解に及ぼす増感剤の影響
- 側鎖にメソゲン基を有するリン酸エステル含有ポリマーの合成
- 加硫ゴムの過酸化水素/ギ酸系による固相酸化分解
- 側鎖にメソゲン基を有するS含有新規ポリウレタンの合成と性質
- ラジカル発生試薬存在下における加硫ゴムの光分解挙動
- 水溶性合成高分子の活性汚泥による分解
- ラジカル発生試薬存在下におけるジエン系ポリマーの光分解挙動
- ラジカル発生試薬存在下におけるジエン系ポリマーの光分解挙動
- メチル2,6-ジイソシアナートヘキサノアートを用いたセグメント化ポリウレタンの合成とその性質
- ソフトセグメントとしてポリ(ε-カプロラクトン)ジオールを用いた新規ポリウレタンの合成と生分解性
- キノン類を増感剤とするジエン系ポリマーの光劣化
- 溶液系におけるジエン系ポリマーの光劣化に及ぼす増感剤の影響
- ポリイソプレンへの側鎖型液晶モノマーの光増感グラフト重合
- 主鎖骨格にビニレン部位を有する新規ケイ素ポリマーの合成
- ジエン系ポリマーの過酸化水素/ギ酸系による固相酸化分解
- 廃タイヤの過酸化水素/ギ酸系による固相酸化分解
- オキシエチレン鎖を有する主鎖型液晶ポリウレタンの合成およびその性質
- クルクミンを用いた新規ポリカーボネートの合成
- 主鎖にフェノチアジンを有する高分子の合成とその性質
- フルオレン骨格を有する新規共役系高分子の合成と特性
- エステル結合を含む新規ポリウレタンの合成と生分解性
- 植物由来材料を原料とする新規ポリウレタンの合成とその特性
- ソックスレー抽出器を用いたアミノ酸エチルエステル-p-トルエンスルホン酸塩の合成
- スルーホールめっきにおける末端修飾ポリエチレングリコール誘導体の合成および評価