Implementation of COMA type ArF Resist for Sub-100nm Patterning

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概要

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• Technical Association of Photopolymers, Japanの論文

著者

• Lee S‐k

  Hynix Semiconductor Inc. Kyoungki‐do Kor

• Jung J‐c

  Korea Hynix Semiconductor Inc. Kyoungki‐do

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