Theoretical Basis for a New Development Rate Model for Positive Photoresist

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• Technical Association of Photopolymers, Japanの論文

著者

• Dammel R

  Clariant Corp. Nj Usa

関連論文

• 193 nm Resists for Deep Sub-Wavelength Applications
• Theoretical Basis for a New Development Rate Model for Positive Photoresist

スポンサーリンク