Design and Synthesis of New Alicyclic Acrylate Polymer with Androstane Moiety for 193nm Resist

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概要

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• Technical Association of Photopolymers, Japanの論文

著者

• Sato K

  Fuji Photo Film Co. Ltd. Shizuoka Jpn

• Kodama K

  Fuji Photo Film Co. Ltd. Shizuoka Jpn

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