光酸・塩基発生剤を利用する光架橋システムの最近の進歩
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- ポリ(4-ブロモアセチルスチレン)の固相光橋かけ反応 (フォトポリマ-)
- エポキシ含有フルオレン : ポリシランブレンド系の光架橋
- エポキシ含有フルオレン-ポリシランブレンド系の光架橋 (特集号=光関連高分子・超分子(3))
- 高分子光塩基発生剤を用いる新しい架橋システムの構築
- 光酸・塩基発生剤の開発とその新規フォトポリマー設計における活用
- 光開始によるアミノ基生成を利用するポジ型ホトレジスト - 溶解性変化およびホトレジスト感度におけるコモノマーの効果 -
- 光酸・塩基発生剤の開発とその新規フォトポリマー設計における活用 (特集 光化学)
- 高分子材料の光分解性と高分子添加剤 (新春特集 高分子添加剤の開発とグリーンケミストリー)
- メタクリル酸メチル-アクリル酸エステル共重合体の185nm光によるアブレーティブ分解
- アシルオキシイミノ基を有するポリマ-の固相光崩壊--粘度法とGPC法の比較 (高分子の分解,劣化,及び安定化)
- 光フリ-ス転位及び光酸化反応を利用する高分子固体表面の光修飾とその応用 (UV,電子線による表面加工特集号)
- 高分子の光化学とその応用
- ギレット先生の思い出 : 基礎研究と応用研究, そしてベンチャービジネス
- プラスチック副資材の理論と実際(7) -抗酸化剤(酸化防止剤)・紫外線吸収剤-
- 光によるアミンの生成を利用する表面修飾型フォトレジスト
- 光塩基発生剤を活用する感光性高分子材料の開発 (特集 高分子材料の高機能化・高寿命化)
- 最新の硬化剤の技術動向 -光開始型潜在性硬化剤-
- 光酸・塩基発生剤を利用する光架橋システムの最近の進歩
- 光塩基発生剤の化学とその応用:感光性高分子(フォトレジストおよびUV硬化材料)開発における活用
- 光開始技術の最新動向
- 感光性高分子 (特集 光機能を生かす高分子材料)
- 高分子劣化のメカニズム
- 表面イメ-ジング法によるフォトリソグラフィ-と水の収着
- 表面修飾を利用したフォトレジスト
- 光分解性プラスチックの設計 (地球環境に貢献する先進材料)
- 高分子固体系における光開始アミノ基生成とその応用
- 高分子材料と地球環境問題 (廃プラスチック問題と処理技術)
- 分解性プラスチックの現状と展望
- 高分子の光分解性と光崩壊性プラスチック (生産プロセスにおける環境浄化)
- 高分子の光分解とその周辺領域の展望
- 光分解性ポリマ- (環境にやさしい材料--その可能性を探る)
- 高分子固相光反応の制御 (感光性高分子材料の開発)
- 光反応性高分子とファインケミカルズ (先端技術とファインケミカルズ)
- 高分子固相光反応の特異性とその応用
- 高分子反応 : 高分子の新しい世界を目指して
- 機能性材料開発における有機および高分子光化学の活用 (特集 光化学の課題と展望)
- 光硬化システムの基礎と応用
- 光反応性高分子(高分子科学最近の進歩)
- 光酸・塩基発生剤を利用する光架橋システムの最近の進歩