電子写真感光体表面保護層用a-Si1-xCx:H膜の特性

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 電子情報通信学会エレクトロニクスソサイエティの論文

著者

• 大野 俊之

  日立・日立研

関連論文

• 30a-A-1 EXAFSによるa-SiGe膜の構造解析
• 25a-PS-30 Y_1Ba_2Cu_3Ox高温超伝導体とMn系酸化物磁性体の特異な近接効果
• 28p-P-14 La_Ca_xMnO_z/YBa_2Cu_3O_y 積層膜のFMR II : La_Ca_xMnO_zの組成依存性
• 28p-PS-79 La_(Ca, Sr)_xMnO_z/YBa_2Cu_3O_y積層膜のFMR
• 28p-APS-68 YBa_2Cu_3O_y/La_(Sr,Ca)_xMnO_/YBa_2Cu_3O_y3層膜のLa_(Sr,Ca)_xMnO_のFMR
• 1p-T-9 Mn酸化物磁性体の近接効果と動的なスピン状態の関連性
• 31p-S-4 反強磁性スピン構造を有するMn酸化物磁性薄膜の巨大磁気抵抗効果
• 電子写真感光体表面保護層用a-Si1-xCx:H膜の特性

スポンサーリンク