高電界印加による酸化膜-シリコン界面準位発生機構に関する一考察

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概要

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• 電子情報通信学会エレクトロニクスソサイエティの論文

電子情報通信学会エレクトロニクスソサイエティ | 論文

• 一般形状6面体辺要素を用いた有限要素電磁界解析
• 単一モ-ドファイバ用光合分波器の簡易組立法
• ストレッチディスクシステムを用いた垂直磁気記録媒体の記録特性
• U溝自己整合形パワーMOSFET (US-DMOS)の提案と評価
• 導電性高分子材料測定用抵抗計

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