超電導薄膜のディジタル応用 (超伝導セラミックスを展望する<特集>)
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- ZrCx/Zr系選択吸収面の作製 (太陽光選択膜特集)
- 15Kで動作可能なNbNジョセフソン接合の作製
- ジョセフソン素子用超伝導薄膜 (ジョセフソンコンピュ-タ技術特集)
- NbN膜,Nb膜を電極に用いた単一磁束量子メモリセルの集積 (ジョセフソンコンピュ-タ技術特集)
- (NbN,Nb)二層構造電極の解析 (ジョセフソンコンピュ-タ技術特集)
- NbN膜を電極に用いたジョセフソン素子の作成 (ジョセフソンコンピュ-タ技術特集)
- 高周波放電酸化法によるジョゼフソン素子特性
- ジョゼフソン素子技術
- Y-Ba-Cu-O薄膜と積層型S-N-Sジョセフソン接合 (ジョセフソン集積回路技術)
- 超電導薄膜のディジタル応用 (超伝導セラミックスを展望する)
- 高周波反応性スパッタによるSn-doped In2O3膜の電気的性質 (太陽光選択膜特集)
- 高周波反応性スパッタによるSn-doped In2O3膜の光学的性質 (太陽光選択膜特集)
- スパッタリングによるIn2O3膜を用いた選択透過膜 (太陽光選択膜特集)
- ZrCx/Zr系の太陽光選択吸収膜
- 質量分析計による高周波化成スパッタリングの研究 (高温電子材料特集)
- 高周波スパッタリングのプラズマ解析