縮合試薬として塩化チオニルを用いる直接重縮合反応によるポリアミドの合成--重合条件の検討
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- 直接重縮合反応による定序性ポリマーの合成
- 縮合試薬として塩化チオニルを用いる直接重縮合反応によるポリアミドの合成--重合条件の検討
- ビス(1-アシロキシイミダゾ-ル)類とジアミン類からのポリアミドの合成
- t-ブチル=シアノアセタ-トとa,a′-ジクロロ-p-キシレンの固-液二相系重縮合反応によるポリマ-の合成
- 異なる結合基をもつビスフェノ-ル類から得られる芳香族ポリエ-テルスルホンの熱安定性
- N,N′-ジアシルビス-2-ベンゾオキサゾロンとジアミンからのポリアミドの合成
- 重縮合における配列規制--定序性縮合系ポリマ-の合成 (精密重合) -- (連鎖の制御)
- β-位にニトロ基またはシアノ基を有するジビニル化合物とジチオ-ルの重付加反応によるポリスルフィドの合成
- ジカルボン酸カリウム塩と脂肪族ジブロミドの重縮合によるポリエステルの合成
- 四級アンモニウム塩を相間移動触媒とする重縮合による芳香族ポリスルホナ-トの合成
- 芳香族ジヒドラジンからの縮合系高分子熱安定性(ノ-ト)
- 3-(カルボキシメチレン)フタリド活性誘導体とジアミンからのポリアミドの合成
- N-(メシルオキシ)フタルイミドおよびN-(メシルオキシ)スクシンイミドとアミン類の反応
- ポリアミド生成反応の体系化の試みについて
- エタンスルタムの開環重合
- 定序性ポリアミドの合成
- 縮合重合でのシークエンス制御のチャンピオンは
- 新しい縮合系高分子の合成法の開発
- 化学増幅型レジスト
- マイクロリソグラフィ-用レジスト材料
- 化学増幅型レジスト
- 直接重縮合
- 2-フルオロアクリロニトリルのラジカル重合 (フッ素の化学とその応用)
- ビニログ的求核置換重合による新しい縮合系高分子の合成
- 求核アシル置換反応のための新しい活性カルボン酸誘導体の分子設計
- 活性カルボン酸誘導体の反応の高分子合成への展開 : 開環重付加反応によるポリアミド類の合成
- 直接重縮合法による縮合系高分子の合成
- フッ素系モノマーの重合と機能
- 重縮合法による反応性高分子の合成-化学選択的ポリアミド合成
- 直接重縮合
- 3-(置換メチレン)フタリドとアミンの反応(ノ-ト)