スルフィド結合を有する高分子の合成と主鎖切断型ポジ型レジストへの応用 (フォトポリマ-<特集>)

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概要

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• 高分子学会の論文

著者

• 田中 秀明

  三菱化成(株)総合研究所

• 小林 力夫

  化技研

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