微細加工用ネガ型フォトレジストLMR-UV (電子デバイス特集-1-)

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 沖電気工業沖時報編集委員会の論文

著者

• 山下 吉雄

  ソルテック

• 神保 秀之

  沖電気工業

関連論文

• 微細加工用遠紫外レジスト
• 電子線直接描画用レジストPACS (電子デバイス特集-1-)
• 位相シフト露光法による0.2μm以下のパタ-ン形成
• CVD-タングステンの応力制御とSOR用X線マスクへの適用
• 微細加工用ネガ型フォトレジストLMR-UV (電子デバイス特集-1-)
• リフトオフ用Deep UVレジスト「LMR」

スポンサーリンク