グロ-放電法による非晶質Si1-xCx:H薄膜の堆積 (化学における活性化の新展開-1-レ-ザ-・プラズマ・超音波・磁場・電場などの利用<特集>)

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概要

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• 日本化学会の論文

著者

• 相沢 浩一

  松下電工

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