SiOx薄膜のXPS,光吸収による構造解析
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- 1p-B-13 蒸着法で作製したa-Siのアニール効果
- 30p-G-2 Li_B_クラスター固体におけるLiの動的挙動
- 4p-YG-11 Al_5Li_3Cu準結晶と近似結晶のNMR
- 14p-DK-3 準結晶I・RT相, D相におけるAl, CuのNMR
- 14p-DK-2 準結晶I・MI相におけるAl, CuのNMR
- 酸化物融液の電気特性評価 : バルク成長V
- Li_2O-B_2O_3系結晶およびガラスのNMR
- 28a-P-10 Li_2B_4O_7の結晶とガラスにおけるLiイオンの動的振舞い
- 30a-B-7 Li_2B_4O_7単結晶のNMR
- 27p-H-14 Li_2B_4O_7の結晶とガラス相のNMR
- 19aTJ-6 層状珪酸塩テニオライトの電気伝導およびNMR
- 22pYF-1 層状珪酸塩テニオライトのNMR
- 26a-P-8 蓄光型蛍光体の結晶育成と評価
- 2a-YK-6 Li_2O-B_2O_3系ガラス中のLiの跳躍時間
- フッ化物ガラスと結晶のフッ素イオンの拡散
- 31p-F-13 フッ化物ガラスおよび結晶(α,β)のフッ素イオンのNMR
- 1p-ZA-1 ホタルルシフェリンの化学発光反応の分光学的研究
- DMSO溶媒中のホタルルシフェリン中間体のH-NMRスペクトルの理論的解析
- 29aZD-7 DMSO 溶媒中のホタルルシフェリンおよびその中間体の H-NMR スペクトルの理論的解析
- 28a-G-3 ホタルの発光色素の光電子スペクトル III
- D-(-)-ルシフェリンのX線光電子スペクトル
- SiOx薄膜のXPS,光吸収による構造解析
- 3a-UA-8 ホタルの発光性色素のXPSによる研究
- a-Si:Nの電気的,光学的性質
- 22aZD-3 ホタルルシフェリン中間体M_の化学発光のフィルター分光測光
- 27a-Q-8 ホタルルシフェリン中間体M_の化学発光におけるDMSO溶媒中の水の影響
- ホタルルシフェリンの分光学的研究(6)
- 7a-P-8 ホタルルシフェリン中間体M_の酸素バブルによる化学発光特性
- 28p-WE-11 ホタルルシフェリンの化学発光の酸素バブル時間依存性
- ホタルルシフェリンの分光学的研究(5)
- ホタルルシフェリンの分光学的研究4
- ホタルルシフェリンの分光学的研究3
- 29p-YX-9 ホタルルシフェリンの化学発光反応の分光学的研究 II
- ホタルルシフェリンの分光学的研究-2-
- ホタルルシフェリンの分光学的研究
- ホタルルシフェリンの[KO2+DMSO]溶液中における化学発光反応
- t-BuOKのDMSO溶液中におけるス-パ-オキサイドの発生機構
- 非晶質シリコンの性質
- 非晶質シリコンの性質-5-a-SiのI-V特性における電極の効果
- 非晶質シリコンの性質-4-試料に含まれる酸素の影響
- 非晶質シリコンの性質-3-水素プラズマ処理効果
- 24pXN-9 層状珪酸塩テニオライト及びゼオライトNMR(24pXN ナノチューブ,ゼオライト,領域7(分子性固体・有機導体分野))