高周波スパッタ法によるZnSxSe1-X混晶薄膜の作製-2-エピタキシャル成長
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- 31a-H-3 高密度磁気記録用CoNiPtスパッター薄膜のスピン波ブリルアン錯乱
- 5p-E-5 CdTe/Cd_Zn_xTe系量子井戸における励起子緩和過程
- 28p-YB-2 CdTe/ZnCdTe系量子井戸における超高速励起子緩和2
- CdTe/ZnCdTe系量子井戸における超高速励起子緩和
- 29pTC-16 Cd_Mn_xSe量子ドットの成長と磁気光物性III
- 14a-DC-12 Cd_Mn_xSe微粒子の磁気光特性
- 1p-P-9 Cd_Mn_xSe微粒子の磁気光物性
- 30p-B-4 Cd_Mn_xTe微粒子の光学的性質II
- 27a-X-17 Cd_Mn_xTe微粒子の光学的性質
- 31a-YN-12 Cd_Mn_xSe微粒子の磁気光物性
- 高周波スパッタ法によるZnSxSe1-X混晶薄膜の作製-2-エピタキシャル成長
- 5a-PS-53 RFスパッタ法によるBi系超伝導薄膜の作製
- 1p-PS-28 RFスパッタ法により作製されたBa-Y-Cu-O系薄膜の特性(低温(酸化物超伝導体))