超短パルスXeClレ-ザ-増幅システムの開発とテラワット光パルスの発生 (超先端加工システムの研究開発<特集>) -- (レ-ザ-ビ-ム装置の評価)
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- 大口径X線予備電離容量移行型XeClレ-ザ-の動作特性
- XeCl飽和エネルギ-のパルス幅依存性
- X線予備電離容量移行型XeClレ-ザ-の開発とその動作特性の計算機シミュレ-ション (超先端加工システムの研究開発) -- (レ-ザ-ビ-ム装置の評価)
- XeCl増幅特性のパルス幅依存性 (超先端加工システムの研究開発) -- (レ-ザ-ビ-ム装置の評価)
- 超短パルスXeClレ-ザ-増幅システムの開発とテラワット光パルスの発生 (超先端加工システムの研究開発) -- (レ-ザ-ビ-ム装置の評価)
- 16.3J放電励起KrFレ-ザ- (超先端加工システムの研究開発) -- (レ-ザ-ビ-ム装置の評価)
- 0.59GW放電励起XeClレ-ザ- (超先端加工システムの研究開発) -- (レ-ザ-ビ-ム装置の評価)
- 大口径X線予備電離放電励起エキシマレ-ザ-装置の開発 (超先端加工システムの研究開発) -- (レ-ザ-ビ-ム装置の評価)
- テラワットXeClレ-ザ-システム
- 大容量X線予備電極XeClレ-ザ-の出力及び放電特性