高アルゴン圧rfスパッタによるアモルファスシリコンの不純物効果と吸着効果

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 日本真空協会の論文

著者

• 鈴木 正国

  金沢大工

関連論文

• MnのESRによるカルコゲナイド非晶質半導体の研究
• 30a-F-4 スパッターa-Si,GDa-Si:H,GDa-Si:H,Fにおける光検波ESR
• グレ-デッドバンド構造をもつ非晶質半導体薄膜の製作
• 高アルゴン圧rfスパッタによるアモルファスシリコンの不純物効果と吸着効果
• 高アルゴン圧rfスパッタによるアモルファスシリコンの不純物効果と吸着効果

スポンサーリンク