3D05 分子線法によるホウ素系半導体の作成
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概要
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- 日本セラミックス協会の論文
- 1991-05-22
著者
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高橋 純一
住友金属鉱山(株)新居浜研究所
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高橋 純一
住友金属鉱山
-
横山 隆
横浜国立大学 大学院工学研究院
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横山 隆
横浜国大 大学院環境情報研究院
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熊代 幸伸
横浜国立大学大学院工学研究院
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中村 純一
横浜国立大学
-
吉田 宏章
横浜国立大学
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