GaN(0001)基板表面清浄化手法の開発
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概要
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我々は、GaN(0001)基板表面の清浄化法の開発を行っている。HF溶液によるエッチングと超高真空中やガス雰囲気化での加熱処理により、清浄化表面の作成手法を構築しつつある。現段階で、清浄化処理を行った表面は局所的に2×2構造を持つ。発表では、処理後の表面構造の基板結晶性依存や光学特性について報告する。
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