シリルラジカル集積分子の合成、構造、及び性質
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概要
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ベンゼン環の1,3-位、1,4-位もしくは1,3,5-位でシリルラジカル部位を集積した分子を対応するハロシリルベンゼンのKC<SUB>8</SUB>による還元的脱ハロゲン化により、合成•単離することに成功した。X線結晶構造解析及びEPRスペクトルの結果から、ベンゼン環の1,4-位で集積した化学種はジシラキノジメタン構造を持つ基底一重項分子である一方、1,3-位及び1,3,5-位で集積した化学種はそれぞれ基底三重項及び基底四重項の高スピンオリゴ(シリルラジカル)であることを明らかにした。
- 基礎有機化学会(基礎有機化学連合討論会)の論文
基礎有機化学会(基礎有機化学連合討論会) | 論文
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