高密度光磁気記録方式
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概要
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現行ISO標準光磁気ディスクは1.0μm/bitで記録されている.次世代光磁気ディスクの高密度化を目指して,SHG緑色,青色レーザー光および,GoPtを中心にした短波長材料開発が盛んになってきた.磁界変調記録とエッジ検出との組み合わせにより,0.55μm/bitが達成された,パルストレイン記録および余弦等化回路により,0.50μm/bitが報告された.クロスト・一クをキヤンセルする技術を用いて,トラックピツチ0.8μm,ビツト長0.80μmが得られた.交換結合磁性多層膜を用いる超解像技術により,マーク長0.3μmでのC/N=42dBおよびエッジ検出と組み合わせることで,0.3μm/bitが達成された.
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公益社団法人 応用物理学会 | 論文
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