放射線による高分子膜図形の形成とその応用
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概要
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写真製版やICの製作工程における精密微細な加工には,感光性樹脂と紫外線露光とを用いる写真食刻法が利用されている.この方法は,加工したい基板の所定の位置だけに樹脂被膜を形成させることから始まる.最近,この被膜形成に,紫外線のかわりに,電子線やX線などを,その特長を活かして,使うことが研究されるようになった.たとえば,電子線と,それに感応する高分子材料とを用いて,基板上に1μm以下の線幅の金属電極を形成させたり,X線によって,マスクを被膜に密着させずに,高解像度の図形の複写を行なったりすることができる.ここでは,このような,従来の食刻技術の限界を超えようとするいくつかの研究の概要を紹介する.
- 社団法人 高分子学会の論文