平板後縁近傍境界層の乱流場の発達に及ぼすスプリッター板の影響
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
An experimental investigation was made on a turbulent boundary layer near the trailing edge on a long flat plate with a blunt trailing edge. The flow was controlled by an additional splitter plate attached to the trailing edge along the wake center line. The length of the splitter plate, l, was varied from 0.3 to 3 times the trailing edge thickness, h. Measurement of fluctuating velocity was made under the freestream zero pressure gradient. Almost independent of the installation of the splitter plate, the turbulent intensity and the Reynolds shear stress in the inner layer decreased when approaching the trailing edge of the flat plate (x/h=0), compared with that in the fully-developed turbulent boundary layer under the zero pressure gradient. The only exception was the distribution at x/h=0 near the wall in the case without the splitter plate (l/h=0), where the degree of the decrease in urms/Ue was relatively small, and vrms/Ue and -uv / Ue2 were larger than those of the zero pressure gradient. The effect of l/h on turbulent quantities was shown just upstream of the trailing edge upon close comparison, and was classified into two groups: l/h<1 and l/h≧1. The tendency of the turbulent energy production terms approaching x/h=0 coincided with the decrease in the streamwise turbulent intensity and in the Reynolds shear stress.
著者
関連論文
- 薄い境界層中に設置された円錐体周りの流れ : 中心断面内の流れ場(流体工学,流体機械)
- 513 単一気泡の上昇挙動に関する実験的研究(流体工学VI)
- 402 溝列によりパルス的な撹乱を受けた円管内乱流(流体工学I)
- 薄い境界層中に設置された円錐体周りの流れ : 前方岐点に関する一考察(流体工学,流体機械)
- 撹拌槽内平パドル翼周りの渦構造 : 渦構造とレイノルズ応力との関係(流体工学,流体機械)
- 薄い境界層中に設置された円錐体周りの流れ : 中心断面内の流れ場
- G703 薄い境界層に設置された円錐体周りの流れ : 円錐体表面圧力分布の頂角に対する変化(GS-7 物体周りの流れ・連成振動,一般セッション)
- S0504-6-1 粗面乱流境界層の仮想壁面高さに対する粗さの効果(噴流,後流および剥離流れの流動解析と応用(その6))
- 2008 LDVを用いた粗面乱流境界層の平均量分布の計測(G05-5 流体工学(5)乱流,21世紀地球環境革命の機械工学:人・マイクロナノ・エネルギー・環境)
- 413 粗面乱流境界層の粗さ要素近傍における渦構造に関する実験的研究(流体工学III)
- 粗面乱流境界層における壁面抵抗の作用点とそれに基づく壁法則の検討(流体工学,流体機械)
- 1703 粗面乱流境界層の壁法則に対する粗さの効果(G05-1 渦,G05 流体工学)
- 519 壁面噴流中に周期的に導入した縦渦対の影響(流体工学VI)
- 縦渦対を用いた二次元チャネル流の操縦 : 縦渦対の挙動と平均速度場(乱流研究の最前線)
- 4034 粗面境界層における壁面圧力変動と速度変動の同時計測(G05-8 境界層・はく離,G05 流体工学)
- 完全相似条件を満足する粗面乱流境界層の実現とその平均流特性(流体工学,流体機械)
- 長平板背後の渦構造に及ぼすスプリッター板の影響(流体工学,流体機械)
- 602 長平板背後の渦構造に及ぼすスプリッター板の影響(流体工学VII)
- 平板後縁近傍乱流境界層の発達に及ぼすスプリッター板の影響(流体工学,流体機械)
- 1555 強度と寸法が変化する縦渦対を用いた壁面噴流の操縦(G05-6 噴流(1),G05 流体工学)
- 縦渦による壁面噴流の操縦に関する実験的研究--周期平均操作による解析
- 中央に長方形切欠を持つ長方形ノズルから流出する乱流噴流 : 第1報,平均速度場(流体工学,流体機械)
- 円管内乱流場に設置された透過性リングを過ぎる流れ : 第2報,乱流場(流体工学,流体機械)
- 404 円管内乱流場に設置された透過性の物体を過ぎる流れ(流体工学I)
- CFDツール(OpenFOAM)を用いた二次元急拡大流路内流れの試行計算
- 521 円管内乱流場に置かれた透過性かく乱リングを越える流れ(流体工学VI)
- 円管内乱流場に設置された透過性リングを過ぎる流れ : 第1報,平均速度場(流体工学,流体機械)
- 0204 規則配置溝列により撹乱を受けた円管内乱流(OS2-1 乱流の計測・解析・制御,オーガナイズドセッション)
- 514 成層流体中で回転運動を開始した円筒まわりの流れ : 層構造の変化過程と密度場の変化(流体工学VI)
- 513 成層流体中で回転運動を開始した円筒まわりの流れ : 形成される層構造の変化(流体工学V)
- 321 成層流体中で回転運動を開始した円筒まわりの流れ : 流れパターンの分類(流体工学IV)
- 520 複数の長方形切欠を用いた二次元乱流噴流の操縦 : 平均流特性(流体工学IV)
- 薄い境界層中に設置された円錐体周りの流れ(頂角による円錐体表面圧力分布の変化)
- 長方形切欠を加えた長方形噴流の流れ場の可視化
- 中央に長方形切欠を持つ長方形ノズルから流出する乱流噴流場
- 205 乱流境界層の乱流量分布に対する粗さの影響(2)(OS2-2 壁乱流の計測と制御,OS2壁乱流の計測と制御)
- 205 乱流境界層の乱流量分布に対する粗さの影響(1)(OS2-2 壁乱流の計測と制御,OS2壁乱流の計測と制御)
- 1109 乱流境界層における対数速度分布に及ぼす逆圧力勾配の影響(2)(OS11-2 広範囲レイノルズ数におけるせん断流,OS11広範囲レイノルズ数におけるせん断流)
- 1109 乱流境界層における対数速度分布に及ぼす逆圧力勾配の影響(1)(OS11-2 広範囲レイノルズ数におけるせん断流,OS11広範囲レイノルズ数におけるせん断流)
- 1107 乱流境界層の外層領域におけるレイノルズ応力分布の相似性(2)(OS11-2 広範囲レイノルズ数におけるせん断流,OS11広範囲レイノルズ数におけるせん断流)
- 1107 乱流境界層の外層領域におけるレイノルズ応力分布の相似性(1)(OS11-2 広範囲レイノルズ数におけるせん断流,OS11広範囲レイノルズ数におけるせん断流)
- S0502-7-2 層流境界層中に設置された正四角錘体周りの流れ([S0502-7]噴流,後流および剥離流れ現象の解明と制御(7))
- S0502-3-1 複数の長方形切欠を用いた二次元乱流噴流の操縦 : 乱流特性([S0502-3]噴流,後流および剥離流れ現象の解明と制御(3))
- 平板後縁近傍境界層の乱流場の発達に及ぼすスプリッター板の影響
- 二次元矩形粗面乱流境界層における壁近傍流れの力学