RFプラズマCVD法によるアモルファスカーボン膜の合成

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概要

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• 炭化水素ガスを原料ガスとして用いRFプラズマCVD法によるアモルファスカーボン膜の合成実験を行った.合成した膜は合成条件 (ガス圧力, 原料ガス流量, 原料ガス種) により高硬度でアモルファス構造の膜と比較的柔かいグラファイト的な構造を持つ膜の2つに分けられた.硬質な膜が形成する条件での成膜速度は最大0.8μm/hであった.<BR>また赤外吸収分光分析 (FT・IR) と発光分光分析 (OES) によるプラズマ反応時の気相中の分子種と発光種のin-situ解析を行い, 気相中の反応が成膜速度, 膜質に与える影響を調べた.その結果, 成膜速度, 膜質は原料ガスの対向電極間の滞留時間に影響を受け, 特に滞留時間が比較的短いプラズマ空間中の中間生成物であるアセチレンの濃度が約2.3×10<SUP>14</SUP>cm<SUP>-3</SUP>以上となる条件ではグラファイト的構造を示す比較的柔らかい膜が合成することが明らかになった.

• 社団法人 化学工学会の論文

著者

• 佐々木 弘明

  川崎製鉄 ハイテク研

• 三友 亨

  川崎製鉄 (株) 技術研究本部 新素材研究センター

• 太田 与洋

  川崎製鉄 (株) 技術研究本部 新素材研究センター

• 大塚 研一

  川崎製鉄 (株) 技術研究本部 新素材研究センター

• 垣生 泰弘

  川崎製鉄 (株) 技術研究本部 新素材研究センター

• 佐々木 弘明

  川崎製鉄 (株) 技術研究本部 新素材研究センター

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