段差におけるスパッタ膜の形状と陽極酸化を用いたSNSブリッジの作製法

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概要

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• We designed a new and simple fabrication procedure to get SNS bridges with short bridge lengths using direction of sputtering deposition and anodic oxidization. This procedure does not need electron-beam lithography and both deposition and etching can be done only by sputtering process. We fabricated two types of the SNS bridges using this procedure; respectively Nb-Nb (reduced critical temperature) -Nb bridges and Nb-Cu-Nb bridges. We have measured several characteristics on those bridges. The experimental results show that both types of bridge were Josephson junctions and the behaviors of Nb-Cu-Nb bridges were in good agreement with the Resistively Shunted Junction model with the electrical resistance near the critical current.

• 日本真空協会の論文

著者

• 青峰 隆文

  九州大学理工学部物理学科

• 中野 裕司

  九州大学大学院総合理工学研究科

• 青峰 隆文

  九州大学理学部

• 青峰 隆文

  九州大学理学部附属基礎情報学研究施設

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