シリカ含有率が低いフライアッシュからの水熱法によるフィリップサイトの選択合成

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概要

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原料フライアッシュのシリカ成分含有率が水熱法によって得られるゼオライトの結晶構造に与える影響について検討した．その結果，シリカ成分含有率が低いフライアッシュからはフィリップサイトとヒドロキシソーダライトが生成することがわかった．このようなシリカ含有率が低いフライアッシュに溶出速度が大きい非晶質シリカ粒子を混合して水熱処理を行うことで，フィリップサイトのみを選択的に合成できる．また，フライアッシュの水熱処理に使用した処理液（NaOH水溶液）をシリカ含有率が低いフライアッシュの水熱処理に再利用することで，添加物を加えることなくフィリップサイトのみを合成できることがわかった．さらに，水熱処理によって得られるゼオライトの結晶構造は，処理液中の可溶性Si種と可溶性Al種の濃度比に依存しており，原料物質の物性から処理開始後90分における両イオンの濃度比を求めることで，生成ゼオライトの結晶構造や吸着能を予想できることが明らかとなった．
社団法人　化学工学会の論文
2003-03-20

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