4.グラフェンの低温プラズマCVDと透明電極応用へのロードマップ(プラズマプロセスを用いた炭素材料合成の実際と産業利用における課題)

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概要

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• グラフェンは原子1個分という究極の薄さを特徴とする炭素膜である.高い電気伝導性と光透過性のため,透明電極として様々な利用が検討されている.本章ではグラフェン合成に適するプラズマの特性について議論する.それを基に表面波励起によるマイクロ波プラズマCVD法を用いたグラフェンの低温成膜技術,ロール・ツー・ロール連続生産基礎技術,およびグラフェン透明導電フィルムを用いたタッチパネルなどの応用開発の状況を紹介し,透明電極応用へのロードマップを議論する.

• 2014-03-25

著者

• 長谷川 雅考

  独立行政法人産業技術総合研究所ナノチューブ応用研究センター:技術研究組合単層CNT融合新材料研究開発機構グラフェン事業部

• 石原 正統

  独立行政法人産業技術総合研究所ナノチューブ応用研究センター

• 山田 貴壽

  独立行政法人産業技術総合研究所ナノチューブ応用研究センター

• 沖川 侑揮

  独立行政法人産業技術総合研究所ナノチューブ応用研究センター

• 山田 貴壽

  独立行政法人産業技術総合研究所ナノチューブ応用研究センター:技術研究組合単層CNT融合新材料研究開発機構グラフェン事業部

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