26aXH-6 SiOH基板上のガラス形成低分子フルクトースの超薄膜構造 : ガラス転移点近傍の膜厚の温度依存性(26aXH 領域11,領域12合同 ガラス合同セッション1,領域11(統計力学,物性基礎論,応用数学,力学,流体物理))

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概要

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• 2013-03-26

著者

• 高橋 功

  関西学院大学大学院理工学研究科

• 清水 勝美

  関西学院大学大学院理工学研究科

• 辻内 祥吾

  関西学院大学大学院理工学研究科

• 西森 一喜

  関西学院大学大学院理工学研究科

• 松浦 俊水

  関西学院大学大学院理工学研究科

• 高橋 功

  関西学院大学 大学院理工学研究科

• 松浦 俊水

  関西学院大学 大学院理工学研究科

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