20aAH-7 SiO2高圧合成相(スティショバイト・コーサイト)中のミュオンスピン緩和(20aAH 格子欠陥・ナノ構造(点欠陥・照射損傷・水素・炭素系),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
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概要
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- 2012-08-24
著者
-
友野 大
理研
-
幸田 章宏
KEK物構研
-
平石 雅俊
総研大
-
門野 良典
KEK物構研
-
門野 良典
高エ機構物構研
-
門野 良典
高エ研:総研大
-
松崎 禎市郎
理研
-
松崎 禎市郎
理研仁科セ
-
小嶋 健児
KEK物構研
-
船守 展正
東大院理
-
谷口 尚
NIMS
-
宮崎 正範
KEK物構研
-
平石 雅俊
KEK物構研
-
門野 良典
KEK
-
小嶋 健児
KEK
-
若林 大佑
東大院理
-
佐藤 友子
広大院理
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