誘電体グレーティングに挟まれた金属薄膜構造の波長特性(パッシブデバイス(II),C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)一般,(ECOC報告))
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概要
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誘電体グレーディングに挟まれた金属薄膜構造を,有限差分時間領域法を用いて解析する.グレーディングの充填率(周期長に対する高屈折率層の占める割合)を適切に選択することで,任意の偏波を透過させる.はじめに充填率が1の場合,すなわち一様な誘電体層に挟まれた金属薄膜構造を取り上げる.誘電体層内部でファブリペロー型の共振が生じる波長1.2μmにおいて,偏波によらず入射波の透過する様子を示す.次に充填率を0.5に選んだ場合について検討する.TM波入射時のみ,回折波によって金属と誘電体の界面に表面プラズモンが励起され,入射波が金属膜を透過する.結果として,波長1.5〜1.75μmの波長帯域において15dB以上の消光比が得られる.最後に,充填率を0.05に選んだ場合について検討する.TE波入射時のみ,波長0.98μm付近でグレーディング内部に共振が生じ,入射波が金属膜を透過する.
- 2011-10-20
著者
-
山内 潤治
法政大学工学部
-
若林 佑
法政大学工学部
-
中野 久松
法政大学工学部
-
中野 久松
法政大学理工学部
-
福井 崇人
法政大学工学部
-
山内 潤治
法政大学理工学部電気電子工学科
-
若林 佑
法政大学理工学部
-
福井 崇人
法政大学理工学部
-
山内 潤治
法政大学理工学部
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