21aHK-1 エピタキシャル応力下におけるSrVO_3薄膜の高分解能ARPES測定(21aHK 光電子分光(超伝導・磁性・強相関系)・MCD・X線発光,領域5(光物性))
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概要
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- 2010-03-01
著者
-
出田 真一郎
東大理
-
吉田 鉄平
東大理
-
藤森 淳
東大理
-
尾嶋 正治
東大院工
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尾嶋 正治
東大工
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藤森 淳
東大新領域
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組頭 広志
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尾嶋 正治
Jst-crest:東大院工
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堀場 弘司
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堀場 弘治
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組頭 広志
東大院工
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東大理
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組頭 広志
東大工
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吉松 公平
東大工
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蓑原 誠人
東大工
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組頭 広志
東京大学大学院工学系研究科
-
尾嶋 正治
Ntt電子応用研究所
-
Fujimori Atsushi
Synchrotron Radiation Research Center Japan Atomic Energy Agency:department Of Physics University Of
-
Fujimori Atsushi
Department Of Physics And Department Of Complexity Science And Engineering University Of Tokyo:japan
-
簑原 誠人
東大工
-
吉松 公平
東工大
-
尾嶋 正治
東大 大学院工学系研究科
-
吉松 公平
東大理:KEK-PF
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