6.プラズマCVD法による薄膜シリコン太陽電池の工業化に向けて(<小特集>次世代シリコン太陽電池製造のためのプラズマ技術)

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概要

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• 次世代薄膜太陽電池として期待されているアモルファスシリコン(a-Si)/微結晶シリコン(μc-Si)タンデム型太陽電池の工業化には,μc-Siの高能率製膜技術が不可欠である.高圧プラズマは高速製膜に有効であるが,メートル超級への適用には課題が多い.我々は,独自の局在プラズマCVD技術を開発し,高圧条件下(>1000Pa)での大面積均一プラズマ生成とμc-Siの超高速製膜(>2.0nm/s)を実現している.

• 2010-01-25

著者

• 寺川 朗

  三洋電機(株)先進太陽光発電開発センター

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