誘電体素子分離技術の変遷について(パワーエレクトロニクス及び半導体電力変換一般)

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る

• The dielectric isolation technologies have many advantages for high voltage ICs. This paper is presented a historical study of the dielectric isolation technology during about 30 years. In 1990s, many important technologies are provided, such as dry etching, polishing and several SOI wafers. Currently, the high voltage ICs have been developed by SOI wafer.

• 2008-10-16

著者

• 山内 経則

  西日本工業大学

関連論文

• 21pTS-2 桑木或雄氏の経歴について : 100年目の小さな謎(物理学史,領域13,物理教育,物理学史,環境物理)
• 電子工学関連の教材に関する研究
• 誘電体素子分離技術の変遷について(パワーエレクトロニクス及び半導体電力変換一般)
• 誘電体素子分離技術の変遷について
• 半導体デバイスの進化と現在の課題

スポンサーリンク