枚葉洗浄装置の次世代レベルパーティクル性能向上(半導体のプロセス・デバイス(表面,界面,信頼性,一般))

スポンサーリンク

概要

論文の詳細を見る
3X-nmレベルのパーティクル測定が可能になってきた。本研究ではその微小パーティクル付着に及ぼす装置起因問題、また、微小パーティクル除去に関する課題と対策について詳細に報告する。
社団法人電子情報通信学会の論文
2008-06-06

著者

関連論文

スポンサーリンク