半導体製造用スーパークリーンルームのガス汚染物質対策(建築分野における特許(7),技術ノート)

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概要

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• 社団法人日本建築学会の論文
• 2002-12-20

著者

• 今福 正幸

  大成建設知的財産部特許室

• 若山 恵英

  大成建設技術センター建築技術研究所

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