4.1 EUV光源(4. これからの光源,プラズマの光源応用〜身近な明かりから次世代光源まで〜)

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概要

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• EUV lithography with a 13.5nm EUV (Extreme ultra-violet) light source is the strongest candidate of the next generation lithography for LSI. EUV is obtained from a high temperature and high density plasma by DPP (Discharge Produce Plasma) and LPP (Laser Produced Plasma).

• 社団法人プラズマ・核融合学会の論文
• 2005-12-25

著者

• 堀田 和明

  EUVA

• 堀田 和明

  Euva:ウシオ電機株式会社

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