任意形状平面回路素子による帯域通過フィルタの位相特性を考慮した最適化設計(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般)
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概要
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本稿では,帯域通過フィルタの位相特性にも着目した遺伝的アルゴリズム(GA)による任意形状平面回路フィルタの最適化設計を提案している.本稿で提案する手法は,指定した周波数範囲において損失が最小となるように評価することに加え,通過域帯内の位相特性と所望の位相特性との差も最小となるように評価している.位相評価を用いず,Sパラメータの大きさのみを評価する方法では,急峻なスカート特性を持つフィルタの設計は困難であったが,本手法を用いると限られた回路スペース内に多段フィルタの構成を実現でき,帯域外減衰特性が大きく改善される.一例として,任意形状素子で構成される平面回路フィルタを最適化し,GAで得られた回路形状を実際に試作,実験を行い,解析結果との比較により本評価法の有効性を確認している.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2007-01-22
著者
-
出口 博之
同志社大学理工学部
-
辻 幹男
同志社大学理工学部
-
大平 昌敬
ATR波動工学研究所
-
城戸 昭則
同志社大学工学部
-
出口 博之
同志社大学
-
大平 昌敬
埼玉大学大学院理工学研究科
-
辻 幹男
同志社大学
-
大平 昌敬
埼玉大学
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