Epitaxial growty limit and preferred orientations of Co-Cr films sputter-deposited at high Ar pressures

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概要

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• 秋田大学の論文

著者

• Ouchi Kazuhiro

  AIT, Akita Prefectural R & D Center

• Ouchi Kazuhiro

  Ait

• HONDA Haoki

  AIT(Akita Research Institute of Advanced Technology)

• OKAMOTO Saori

  AIT

• CHIBA Takashi

  AIT

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