近接場光による高密度相変化記録(光記録及び磁気記録一般)
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概要
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先端に波長以下の寸法の微小開口を備えた石英プローブを持つスライダヘッドを半導体バッチプロセスにより作製した.作製したスライダヘッドに波長780nmの半導体レーザ光を入射し,回転させたAgInSbTeを記録層として持つ表面型相変化記録媒体に回折限界以下の寸法(290nm)で結晶化記録マーク及び,アモルファスマーク記録マークを形成することができた.さらに,走査型電子顕微鏡を用い,微小開口を備えたプローブヘッドにより記録した相変化マークの形状を観察した.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2006-03-03
著者
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山口 隆行
株式会社リコー 研究開発本部 先端技術研究所
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福田 浩章
株式会社リコー 研究開発本部 先端技術研究所
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高橋 淳一
株式会社リコー 研究開発本部 先端技術研究所
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横森 清
株式会社リコー 研究開発本部 先端技術研究所
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横森 清
株式会社リコー
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福田 浩章
株式会社リコー
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