光リソグラフィー用レーザー生成極端紫外光源のデブリモニター法の開発

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概要

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• Recently the extreme ultraviolet (EUV) light at 13.5 nm has been paid a great attention as a light source for the next generation optical lithograpy. One of the most important requirements of a source for EUV Lithography is debris mitigation. We have proposed quarts crystal microbalance (QCM) method a as the convinient debris evaluation method in order to obtain guidelines for debris mitigation. In this study, we demonstrated a QCM senser can be applied to mass monitor of debris.

• 九州大学の論文

著者

• 田中 博樹

  九州大学大学院システム情報科学研究院

• 田中 博樹

  九州大学大学院システム情報科学府電気電子システム工学専攻

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