微小空間にDC励起されたプラズマの金属エッチング特性(音響・超音波サブソサイエティ合同研究会)
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
DC電圧でプラズマを励起する方法は、プラズマ発生部の構造が簡易的であるので、微小空間内でのプラズマ発生に向いている。本論文では、このDC励起法を、所望量金属をエッチングすることを目的に、その可能性を検討した。DC放電によるスパッタリングプロセスには、プラズマの状態がグローからアークへ移行するために起こる、異常放電がしばしば問題となる。そこで、我々はプラズマインピーダンスの概念導入した放電安定回路を導入し、パッシェンの法則による圧力コントロールを行った。その結果、安定したエッチングレートで金属薄膜のエッチングを行うことができた。実験の結果、Ag薄膜のエッチングレートを0.05nm/secから0.5nm/secまで安定に制御でき、異常放電が起こらないことが確認できた。
- 2006-01-20