低レイノルズ数領域における後方ステップ流れの研究 : 対壁側とステップ側のはく離再付着過程(OS1-4後流、はく離流れ,噴流、後流及びせん断流の基礎と応用)

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概要

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• 一般社団法人日本機械学会の論文
• 2004-11-24

著者

• 山田 俊輔

  東理大院

• 佐川 裕達

  東理大院

• 木阿弥 眞治

  東理大工

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